發(fā)布時(shí)間: 2017-10-20 點(diǎn)擊次數(shù): 1489次
Harrick等離子清洗機(jī)采用電感耦合高密度等離子體(ICP),能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠),達(dá)到晶圓表面潔凈,Harrick等離子清洗機(jī)具有蝕刻率高,無(wú)電極污染,離子能量低,不損傷基板等優(yōu)點(diǎn)。
Harrick等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)組成,主要都是由兩個(gè)部分組成:
一是,等離子發(fā)生器,該部分由集成電路、運(yùn)行控制、等離子發(fā)生電源、氣源處理、安全防護(hù)等組成。
二是,等離子處理裝置,該部分由激發(fā)電極、激發(fā)氣路等組成。
Harrick等離子清洗機(jī)預(yù)處理工藝的優(yōu)點(diǎn):
1、表面活化非常有效而且均勻,所處理的表面上不會(huì)有熱量累積。
2、無(wú)外殼變形
3、可降低壁厚,節(jié)省了材料
4、可以處理整個(gè)粘接面,包括膠槽底部和側(cè)壁
5、整個(gè)接合表面的預(yù)處理,包括凹槽的根部和側(cè)壁
Harrick等離子清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng),用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來(lái)愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng),受電場(chǎng)作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這時(shí)會(huì)發(fā)出輝光,故稱(chēng)為輝光放電處理。 輝光放電時(shí)的氣壓大小對(duì)材料處理效果有很大,影響另外與放電功率,氣體成分及流動(dòng)速度、材料類(lèi)型等因素有關(guān)。