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基本型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。

Harrick高功率擴展型等離子清洗機是一款多功能的工具，適用于刻蝕有機薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。

高功率等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。

Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士，開創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要開發(fā)者。 $nHarrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件。現(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實驗室是廣泛應(yīng)用。

氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機模型結(jié)合，有利于氣體混合，氣體的流量和真空壓力監(jiān)測更精確的定量控制。