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光學(xué)接觸角測量儀一般采用自動測量方式，通過顯微鏡、光源、光學(xué)投影儀等光學(xué)元件的組合，將液滴表面的干涉條紋實(shí)時投影到顯微鏡的目鏡中，再通過目鏡調(diào)焦，調(diào)節(jié)光學(xué)光路，使干涉條紋清晰可見。然后，通過光學(xué)接觸角儀的測量模塊對干涉條紋進(jìn)行圖像分析，計算...

薄膜反射儀的原理基于光的干涉，光波在薄膜中傳播時會受到不同路徑的干涉效應(yīng)影響，從而影響反射光的強(qiáng)度和相位。通過測量這些反射光的特性，可以推導(dǎo)出薄膜的厚度和折射率。不僅可以應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室的科學(xué)研究，還可以用于工業(yè)生產(chǎn)中的薄膜涂層、光學(xué)元件等的檢...

基本型等離子清洗機(jī)能夠快速而地去除電子零件表面的灰塵、油污等污垢，提高產(chǎn)品質(zhì)量；可用于清洗管道、儲罐等設(shè)備，消除污垢對生產(chǎn)過程的影響；能夠?qū)κ称钒b容器進(jìn)行潔凈處理，避免食品污染；用于清洗醫(yī)療器械，可以有效滅菌和除去殘留物，保證患者的安全。...

Harrick等離子清洗機(jī)具有清洗速度快、清洗效果好、操作簡便等特點(diǎn)。它可以清洗多種材料的表面，包括玻璃、金屬和半導(dǎo)體等。它廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室研究和制造工藝中，如光學(xué)和光子學(xué)器件制備、表面處理和薄膜沉積等領(lǐng)域。Harrick等離子清洗機(jī)的常見...

勻膠旋涂儀的工作原理簡單但有效。通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)速、膠刀的壓力和膠液的流量等參數(shù)，可以得到所需的涂布薄膜厚度和均勻度。廣泛應(yīng)用于材料研究、薄膜制備、電子器件制造等領(lǐng)域。選擇合適的勻膠旋涂儀可以提高實(shí)驗(yàn)效果和工作效率：1.根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求確定需要...

擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)通過不斷地生成和消失，等離子體能夠在物體表面上形成一層物理化學(xué)的清洗層，將物體表面的污染物去除。清洗過程中的副產(chǎn)物主要是水和二氧化碳，這些副產(chǎn)物通過真空系統(tǒng)和氣體凈化系統(tǒng)排出，廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，涵蓋了電子、光學(xué)、材料、生物醫(yī)...

熱重分析質(zhì)譜儀(TGA-MS)是一種結(jié)合了熱重分析和質(zhì)譜技術(shù)的分析儀器，可用于定量分析樣品隨著溫度變化而發(fā)生的重量變化和氣體釋放情況，同時確定氣體成分。主要由兩部分組成：熱重分析儀和質(zhì)譜儀。在TGA中，樣品在加熱過程中會發(fā)生物理或化學(xué)變化，...

微波等離子去膠機(jī)是在(RIE)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡化改進(jìn)而來，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻...

等離子清洗機(jī)真空泵是用各種方法在某一封閉空間中產(chǎn)生、改善和維持真空的裝置。真空泵可以定義為：利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。隨著真空應(yīng)用的發(fā)展，真空泵的種類已發(fā)展了很多種，其抽速從每秒零點(diǎn)幾升到...

PDC-002等離子清洗機(jī)由等離子發(fā)生器、輸氣管道、等離子噴嘴等部件組成。等離子體發(fā)生器產(chǎn)生的高壓高頻能量在噴嘴鋼管內(nèi)被激活和控制的輝光放電中產(chǎn)生低溫等離子體。等離子體通過壓縮空氣噴射到工件表面。當(dāng)?shù)入x子體遇到待處理物體的表面時，物體會發(fā)生...