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簡要描述:NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺,Z大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
產(chǎn)品型號:
所屬分類:Sputter磁控濺射系統(tǒng)
更新時間:2017-03-03
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
磁控濺射技術(shù)
NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能,zui大到8"旋轉(zhuǎn)平臺,zui大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-3500帶有10"派熱克鐘罩腔體或者13"鋁質(zhì)腔體,3個2"的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,我們提供不銹鋼腔體,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。
NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點:
選配項:
應(yīng)用: