NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機
簡要描述:NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機:*進的全自動濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能的8“旋轉(zhuǎn)樣平臺,Z大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達到10-6 Torr的真空。通過使用RF射頻開關(guān),RF射頻或DC直流電源可以切換到多磁控管模式。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
產(chǎn)品型號:
所屬分類:Sputter磁控濺射系統(tǒng)
更新時間:2017-03-03
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
詳情介紹
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機產(chǎn)品特點:
- 不銹鋼,鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
- 70,250或500 l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
- 13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
- 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
- 帶觀察視窗的腔門易于上下載片
- 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
- 帶密碼保護功能的多級訪問控制
- *的安全聯(lián)鎖
選配項:
- 向上、向下或側(cè)面濺射
- RF、DC以及脈沖DC濺射
- 共濺射、反應(yīng)濺射
- 組合濺射
- RF或DC偏壓(1000V)
- 樣品臺可加熱到700°C
- 膜厚監(jiān)測儀
- 基片的RF射頻等離子清洗
- 預(yù)真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
應(yīng)用:
- 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
- 光學以及ITO涂覆
- 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
- 帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射
型號:
- NSC-4000:基于PC計算機全自動控制的獨立式系統(tǒng)
- NSC-3500:基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立式系統(tǒng)
- NSC-3000:PC計算機全自動控制的臺式系統(tǒng)
- NSC-1000:半自動控制的臺式系統(tǒng)
(以下為雙系統(tǒng)型號)
- NSR-4000:濺射/RIE系統(tǒng)
- NSP-4000:濺射/PECVD系統(tǒng)
- NST-4000:濺射/熱蒸發(fā)系統(tǒng)
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