Harrick等離子清洗機(jī)是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子來達(dá)到傳統(tǒng)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài)，也稱為第四種物質(zhì)狀態(tài)。向氣體施加足夠的能量使其電離，使其變成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團(tuán)、受激核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機(jī)就是利用這些活性成分的特性來處理樣品表面，從而達(dá)到清洗等目的。

 

　　清洗機(jī)中產(chǎn)生等離子體的裝置是將兩個電極放置在一個密封的容器中形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體變得越來越薄，分子間距和分子或離子的自由運動距離變得越來越長。在正負(fù)極電場的作用下，它們碰撞形成等離子體。這些離子具有足夠高的活性和能量來破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，并在任何暴露的表面上引起化學(xué)反應(yīng)。不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性質(zhì)。例如，氧等離子體具有高氧化性能，可以氧化光刻膠產(chǎn)生氣體，從而達(dá)到清洗效果。腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性，能夠滿足刻蝕的需要。

 

　　Harrick等離子清洗機(jī)可以處理各種材料，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是聚合物材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂和其他聚合物)都可以用等離子體處理。因此，它特別適用于不耐熱和耐溶劑的材料。還可以選擇性地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行局部清洗。當(dāng)清潔和去污完成時，材料本身的表面性能可以得到改善。例如改善表面的潤濕性和改善膜的粘附性，這在許多應(yīng)用中是非常重要的。