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NMC-4000(M)PAMOCVD系統(tǒng):針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動(dòng)控制。
NMC-4000(A)全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng):針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動(dòng)控制。
AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積,具有良好的共形性;曝光控制,用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性;預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方;簡單便捷的系統(tǒng)維護(hù)及安全聯(lián)鎖;目前市面上占地小,可兼容各類潔凈室要求的系統(tǒng);
NLD-4000(ICPA)全自動(dòng)PEALD系統(tǒng):ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性,可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。
NLD-4000NLD-4000(ICPM)PEALD系統(tǒng):ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性,可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。