等離子刻蝕Minilock-Phantom III ICP

簡(jiǎn)要描述：Minilock-Phantom III具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)： Minilock-Phantom III ICP

所屬分類：等離子刻蝕ICP

更新時(shí)間：2019-01-17

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

留言詢價(jià)聯(lián)系我們

詳情介紹

Minilock-Phantom III具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

可適用于單個(gè)基片或帶承片盤(pán)的基片(3”- 300mm尺寸)，為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供xian jin的刻蝕能力。它也具有多尺寸批處理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。

系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應(yīng)室還可以用于去除光刻膠和有機(jī)材料。可選配靜電吸盤(pán)(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器，及在基片背面保持一個(gè)氦冷卻層，從而達(dá)到控制基片溫度的作用。
該設(shè)備可選配一個(gè)電感耦合等離子(ICP)源，其使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。
基片通過(guò)預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防止反應(yīng)室內(nèi)可能發(fā)生的腐蝕。

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說(shuō)明：
驗(yàn)證碼：

請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果（填寫(xiě)阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：EFC270蝕刻殘留物去除劑

下一篇：CPS-XXX-CF低溫探針臺(tái)

国产一区欧美精品日韩一区,国产精品 欧美 日本,艳MU1一6全集在线播放极速,无人区码一码二码三码区

等離子刻蝕Minilock-Phantom III ICP

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說(shuō)明：

驗(yàn)證碼：

国产一区欧美精品日韩一区,国产精品欧美日本,艳MU1一6全集在线播放极速,无人区码一码二码三码区