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簡要描述:Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品型號: Trion Orion HDCVD
所屬分類:高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
更新時間:2019-01-15
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù),在惰性氣體進入口安裝感應(yīng)線圈,周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時,會發(fā)生化學(xué)反應(yīng),然后在襯底表面沉積一層薄膜.
該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。
射頻可通過Chuck改變薄膜性能。
該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。
該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster。