磁控濺射系統(tǒng)

簡要描述：GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：
帶有水冷或者加熱（高可加熱到700度）功能，大到6“旋轉平臺，大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

產品型號： GSC-1000

所屬分類：磁控濺射系統(tǒng)

更新時間：2019-01-15

廠商性質：生產廠家

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詳情介紹

GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)?

GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：

帶有水冷或者加熱(高可加熱到700度)功能，大到6"旋轉平臺，大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

產品特點：

不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
70l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯(lián)鎖功能
選配項：
Thickness Monitor 膜厚監(jiān)測
應用：
SEM應用
濺射金屬，大到6"的晶圓片

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