紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)_第(2)頁-德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司

產(chǎn)品中心 / products

產(chǎn)品中心

product center

相關(guān)文章

NXQ4000紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
美國NXQ以的性能，經(jīng)濟(jì)的價(jià)格，深受用戶喜愛，截至2016年底，超過5000臺(tái)NXQ曝光系統(tǒng)遍布*科研實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)中心。

更新時(shí)間：2019-01-18型號(hào)：NXQ4000瀏覽量：1498

查看詳情
Model 200紫外掩膜曝光機(jī)
OAI 200型光刻機(jī) 和紫外曝光系統(tǒng) OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。

更新時(shí)間：2019-01-18型號(hào)：Model 200瀏覽量：1403

查看詳情